【上午九点半】光刻系列讲座 | 段立峰：光刻机技术简介

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为了促进光刻技术的繁荣和发展，促进光光刻技术的普及和推广，促进光刻技术人才的成长和提高，提高全民科学素质服务，现中国光学学会光刻技术专业委员会（筹）将开展系列主题科普报告活动，由于疫情等原因，活动形式暂时为线上视频讲座。

此次报告由中国光学学会光刻技术专业委员会主办，于2020年10月16日9:30开始。授权蔻享学术进行网络直播。


主题：光刻机技术简介

主讲人：段立峰

单位：上海微电子装备（集团）股份有限公司

主持人：步扬

主办方：中国光学学会光刻技术专业委员会

报告摘要

光刻机是集成电路制造中最核心的设备，其技术的进步驱动着摩尔定律不断发展。本报告介绍了光刻机的发展历程，重点介绍了扫描光刻机的系统组成和关键技术，并对前沿的EUV光刻机做了简明介绍。

主讲人介绍

段立峰，光学工程专业，工学博士。现任上海微电子装备（集团）股份有限公司前道光刻机平台总监，高端光刻机研发技术负责人，上海市优秀技术带头人。带领团队先后开发多款高端光刻机，共发表光刻设备相关学术论文近30篇，其中SCI, EI检索10余篇；申请发明专利20余项，授权发明专利10余项。

编辑：王茹茹

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